石家莊鋁氧化設備 保定氧化設備

氧化工藝:

上架——除油——水洗——酸蝕——水洗——水洗——堿蝕——水洗——水洗——中和出光——水洗——水洗——鉗料——氧化——水洗——水洗——水洗——封孔——水洗——水洗——下架——風干——檢驗——包裝

①型材上料前應將吊桿接觸面打磨干凈，并按標準支數上料，其計算公式：上料支數= 標準電流 標準電流密度×單支型材面積

②上架支數的考慮原則：

a、硅機容量利用率不大于95%；

b、電流密度取1.0—1.2A/dm;

c、型材形狀和兩支型材之間留必要的間隙；

③氧化時間的計算：氧化時間（t）= 膜厚 K·電流密度 K 為電解常數，取0.26—0.32，t單位為分鐘；④上排時按照《型材面積及上排支數表》規定的支數上架；

⑤為了便于排液和排氣，上排捆扎時應傾斜，傾斜度5°為宜；

⑥兩端可超出導電桿10—20mm，多不得大于50mm。

三、低溫拋光工藝

①低溫拋光槽中低溫拋光劑濃度控制為總酸25—30g/l，低≥15 g/l；

②拋光槽溫20-30℃不得低于20℃，拋光時間90—200s；

③提架傾斜，滴凈殘液后，迅速放入清水槽中漂洗，經兩道水洗后迅速放入氧化槽氧化